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- 碳化硅微粉除铁主要工艺[ 04-11 14:45 ]
- 碳化硅微粉除铁主要工艺 1.化学除铁工艺——酸浸法 碳化硅微粉中的铁杂质主要以单质铁及其氧化物化铁的形式存在。因为单质铁及其三氧化铁均溶于硫酸、硝酸、盐酸等，生成可溶性铁盐通过加水洗涤可以去除。茆福炜用盐酸来除碳化硅微粉，通过比较盐酸浓度及反应温度对除铁率的影响，最终得到盐酸浓度在180g/L、反应温度为80℃除铁率最高，此条件下除铁率可以达到93%左右。王春利以硫酸、盐酸、氢氟酸中的一种或者两种作为浸取液，实验结果表明：对于中值粒径在0.5μm左右的
- 碳化硅微粉去除碳杂质主要工艺[ 04-10 17:00 ]
- 碳化硅微粉去除碳杂质主要工艺 1.化学除碳工艺 1.1加热氧化法 通过对碳化硅微粉进行高温煅烧，使碳化硅微粉中的游离碳及石墨与空气中的氧气反应，以二氧化碳或者一氧化碳的形式脱离碳化硅，从而实现了除碳的目的。 付仲超等利用高温煅烧除去碳化硅微粉中的碳杂质。该方法的最佳工艺条件为煅烧温度为900℃，煅烧时间为3h，碳化硅内部的碳杂质得到了完全去除。 宋本营等以空气为氧化介质进行碳化硅微粉与碳杂质的分离。实验结果表明：当氧化温度在450～560℃之间，氧化时间在4h，杂质碳的去除率可以达到98.6%～99.2%
- 认识晶须之王——碳化硅晶须[ 04-01 15:38 ]
- 碳化硅陶瓷的基本特性[ 04-01 15:24 ]
- 碳化硅陶瓷材料具有高温强度大、高温抗氧化性强、耐磨损性能好、热稳定性佳、热膨胀系数小、热导率大、硬度高、抗热震和耐化学腐蚀等优良特性，在汽车、机械化工、环境保护、空间技术、信息电子、能源等领域有着日益广泛的应用，已经成为一种在很多工业领域性能优异的其他材料不可替代的结构陶瓷。 基本特性 一、化学属性 1、抗化合性：碳化硅材料在氧气中反应达到1300℃时会生成二氧化硅保护层，抵制碳化硅继续被化合。1900K是碳化硅在氧化剂氛围下的最高工作气温。 2
- 碳化硅陶瓷的主要应用[ 09-03 08:48 ]
- 近年以来高性能碳化硅陶瓷的研究与应用一直备受关注。碳化硅陶瓷作为现代工程陶瓷之一，由于其硬度仅次于金刚石，具有热膨胀系数小、热导率高、化学稳定性好、耐磨性能高、在高温下仍具有良好力学性能和抗氧化性能等突出的物理化学性质，同时，SiC还具有低的中子活性、良好的耐辐照损伤能力和高温结构稳定性等优点，成为极具发展前景的结构陶瓷。因此被广泛应用于石油化工、冶金机械、微电子器件和航空航天等领域。 SiC陶瓷的应用领域
