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    碳化硅烧结工艺[ 04-05 17:41 ]
    无压烧结 无压烧结被认为是SiC烧结最有前途的烧结方法,根据烧结机理的不同,无压烧结又可分为固相烧结和液相烧结。S.Proehazka通过在超细β-SiC粉体(含氧量小于2%)中同时加入适量B和C的方法,在2020℃下常压烧结成密度高于98%的SiC烧结体。A.Mulla等以Al2O3和Y2O3为添加剂在1850-1950℃烧结0.5μm的β-SiC(颗粒表面含有少量SiO2),获得的SiC陶瓷相对密度大于理论密度的95%,并且晶粒细小,平均尺寸为1.5μm。 热压烧结 &nb
    冶炼碳化硅出炉及比例[ 04-04 15:27 ]
      在出炉时,先拆除最外层的保温层(可再利用),保温层里面为黄皮,实际是上半反应料,形成温度为1800-1900℃,主要成分是二氧化硅、碳化硅和碳的混合物,因温度不够而未发生化学反应,但水分已排出,焦碳及木屑中的挥发也不同程度排出,也叫乏料。   黄皮里面为三级硅,含量为70%-90%左右,形成温度在1900-2000℃左右,颜色呈灰色至黄白色,三级硅里面为二级硅,形成温度在2000-2500℃左右,含量在90%左右,其中二级硅和三级硅均可作为耐火材料使用,最内层结晶最好的
    金蒙新材料--思八达全员生发智慧系统学习分享(一)[ 01-03 17:05 ]
    通过学习我知道要想把工作做好,首先要明确自己的位置,找准自己的方向,通过踏踏实实不断努力的工作,来实现自我体现自我的价值,通过公司这个平台我们才有机会更好的展示我们的价值。
    在机械工业上碳化硅的应用[ 04-06 17:19 ]
    (1)做磨料、磨具。 (2)在气体渗碳炉上做加热辐射管。 (3)用碳化硅制造各种高温炉管、热电偶管、远红外反射板。 (4)利用碳化硅材料的良好导电性能,可以制成非金属电热元件。
    碳化硅陶瓷的生产工艺[ 04-05 17:33 ]
    碳化硅粉体的制备技术就其原始原料状态分为固相合成法和液相合成法。 固相合成法 固相法主要有碳热还原法和硅碳直接反应法。碳热还原法又包括阿奇逊法、竖式炉法和高温转炉法。阿奇逊法首先由Acheson发明,是在Acheson电炉中,石英砂中的二氧化硅被碳所还原制得SiC,实质是高温强电场作用下的电化学反应,己有上百年大规模工业化生产的历史,这种工艺得到的SiC颗粒较粗。此外,该工艺耗电量大,其中用于生产,为热损失。   20世纪70年代发展起来的法对古典Acheson法进行了改进,80年代出现了
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