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    什么是SiCf/SiC复合材料[ 08-30 16:24 ]
    SiCf/SiC陶瓷基复合材料是指在SiC陶瓷基体中引入SiC纤维作为增强材料,形成以引入的SiC增强纤维为分散相,以SiC陶瓷基体为连续相的复合材料。SiCf/SiC陶瓷基复合材料保留了SiC陶瓷耐高温、高强度、抗氧化、耐腐蚀、耐冲击的优点,同时兼具SiC纤维增强增韧作用,克服了SiC陶瓷断裂韧性低和抗外部冲击载荷性能差的先天缺陷。SiCf/SiC复合材料作为一种综合性能优异的高温热结构材料,在航空、航天、核能、汽车等领域具有广泛的应用前景,成为目前各个西方国家的研究热点。
    C/SiC陶瓷基复合材料应用[ 08-29 17:21 ]
    碳纤维不仅具有密度低、比强度高、耐磨、耐腐蚀、导电、导热、摩擦系数低等特性,而且还具备十分优异的高温力学性能,其在惰性气氛、2000℃以上环境中,力学性能仍然不下降。但其高温抗氧化性较差,因此通常与金属、陶瓷、树脂等复合,制备应用于航空航天、军事工业等尖端技术领域的先进复合材料。 在热结构陶瓷基复合材料领域中,碳化硅以其优异的高温力学性能(强度、抗氧化性、抗蠕变性等)、低的热膨胀系数和摩擦系数、优良的导热和导电性,成为基体材料的主要候选之一。然而SiC陶瓷的缺点是脆性较大。 C/SiC陶瓷基复合材料通过
    牛津仪器推出新型SiC外延衬底化学机械抛光(CMP)解决方案[ 08-27 16:47 ]
    据粉体圈整理消息:8月22日,牛津仪器(OxfordInstrumentsplc)旗下等离子技术公司(PlasmaTechnology)推出一种新型SiC外延衬底化学机械抛光(CMP)的替代解决方案——等离子抛光干法蚀刻(PPDE),它不仅更清洁、环保、低成本,并且更稳定。 CMP多年来一直是SiC衬底制备的最好选择,但它存在不良率的顽疾,这在当前满足SiC需求增长十分不利。首先,CMP浆料存在一定毒性,晶圆厂的CMP流程会对环境造成很大影响,并且大量消耗水资源;其次,CMP所须的抛光
    晶盛机电成功研发出8英寸N型SiC晶体[ 08-26 17:05 ]
    8月12日消息,经过晶体实验室研发团队半年多的技术攻关,晶盛首颗8英寸N型SiC晶体成功出炉,标志着晶盛第三代半导体材料SiC研发自此迈入8英寸时代,同时这也是晶盛在宽禁带半导体领域取得的又一标志性成果。 据了解,此次研发成功的8英寸SiC晶体,晶坯厚度25mm,直径214mm,是晶盛在大尺寸SiC晶体研发上取得的重大突破。 在技术上,晶盛成功解决了8英寸晶体生长过程中多个难点问题,比如温场不均、晶体开裂、气相原料分布等等。 此外,还破解了SiC器件成本中衬底占比过高的难题,为大尺寸SiC衬底广泛
    哈尔滨科友半导体6英寸碳化硅衬底正式投产[ 08-25 11:37 ]
    据粉体圈消息:8月18日,位于哈尔滨新区,投资10亿元建设的科友第三代半导体产学研聚集区项目一期正式投产,预计年底全部达产后可形成年产能10万片6英寸碳化硅衬底的生产能力。 据悉,哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司(科友半导体)成立于2018年,是一家专注于第三代半导体装备研发、衬底制造、器件设计、技术转移和科研成果转化的国家级高新技术企业。去年7月,科友半导体产学研聚集区项目正式开工建设。主要建设中俄第三代半导体研究院、中外联合技术创新中心、科友半导体衬底制备中心、科友半导体高端装备制造中心、国际
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